每日經(jīng)濟新聞 2024-11-01 13:24:19
每經(jīng)AI快訊，近日，北方華創(chuàng)自主研發(fā)的高均勻性、大產(chǎn)能，并適用大翹曲硅片的12英寸等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備交付客戶。此次推出的Cygnus系列12英寸等離子體增強化學氣相沉積設備，主要用于制備氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、碳氧化硅、碳氮化硅等多種高品質(zhì)介質(zhì)薄膜，可滿足邏輯、存儲和先進封裝對鈍化層、隔離層、抗反射層、刻蝕停止層等多樣化的應用需求。
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