2025-10-25 20:02:24
每經(jīng)AI快訊，光刻技術是推動集成電路芯片制程工藝持續(xù)微縮的核心驅(qū)動力之一。近日，北京大學化學與分子工程學院彭海琳教授團隊及合作者通過冷凍電子斷層掃描技術，首次在原位狀態(tài)下解析了光刻膠分子在液相環(huán)境中的微觀三維結構、界面分布與纏結行為，指導開發(fā)出可顯著減少光刻缺陷的產(chǎn)業(yè)化方案。相關論文近日刊發(fā)于《自然·通訊》。（科技日報）
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