每經(jīng)編輯｜周宇翔

上海新陽3月11日晚間公告，近日，參股公司芯刻微公司（上海新陽持有芯刻微38%的股權(quán)）委托盛吉盛（寧波）半導體材料有限公司代理投標，成功中標購得ASML XT 1900 Gi型二手光刻機一臺，該設備可用于研發(fā)分辨率達28nm的高端光刻膠。

公告稱，3月11日，芯刻微公司向盛吉盛支付10%首期貨款購入該光刻機，剩余90%六個月內(nèi)付清。后續(xù)公司將啟動設備的運輸及相關安裝調(diào)試等工作。

上海新陽表示，公司采購的ASML浸沒式光刻機設備是對公司ArF濕法光刻膠技術(shù)先進性的設備保障，對加快公司集成電路制造用光刻膠產(chǎn)品研發(fā)項目進度有積極影響，有利于進一步提升公司光刻膠產(chǎn)品的核心競爭力，加速落實公司發(fā)展戰(zhàn)略，提高公司抗風險能力和可持續(xù)發(fā)展能力。

本次購買的光刻機尚須經(jīng)過運輸、裝機、調(diào)試及投入相關配套設施，若以上環(huán)節(jié)出現(xiàn)工作疏漏或失誤則存在造成所購買的光刻機投入使用的過程較長甚至無法投入使用的風險。

公告稱，光刻膠產(chǎn)品在集成電路材料中技術(shù)難度大，質(zhì)量要求最高，開發(fā)周期長，且核心技術(shù)及原材料幾乎被國外廠商所壟斷。因此，存在著研發(fā)失敗和研發(fā)計劃滯后的風險，提醒投資者注意投資風險。

值得注意的是，這不是上海新陽近期第一次發(fā)布有關光刻機的信息。本月初，上海新陽曾公告稱，此前購買的一臺二手光刻機進入到合作方場地。

上海新陽今年3月8日曾發(fā)布公告，公司自立項開發(fā)193nm ArF干法光刻膠的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目以來，安排購買了ASML-1400光刻機等核心設備。該光刻機設備已于公告當天進入合作方場地。

而根據(jù)此前上海新陽在投資者互動平臺上的答復，上述ASML-1400光刻機同樣為二手設備，購買價格約1億元。